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上海鑄金分析儀器有限公司
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產(chǎn)品名稱:輝光放電光譜儀
產(chǎn)品型號:GDA 550 HR&GDA 750 HR
產(chǎn)品廠商:其它品牌
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簡單介紹:
上海鑄金分析儀器有限公司供應輝光放電光譜儀、火花直讀光譜儀、ICP光譜儀、XRF光譜儀等各種光譜分析儀器。輝光放電光譜儀GDA 550 HR和GDA 750 HR是*強大的輝光光譜儀,非常適合研發(fā)任務。基于模塊化概念,可以設想多種選項組合,因此可以為您的應用實現(xiàn)*佳配置。GDA 550 HR主要用于研究您的導電樣品。GDA 750 HR也用于分析不導電樣品。
詳情介紹:
輝光放電分析(GDA)于1968年**出現(xiàn),用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學分析。
這種分析方法不斷地發(fā)展,尤其擅長于表面和涂層分析。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術相比,輝光放電
技術的突出優(yōu)點是能夠表層分析樣品的表層。
適用于質(zhì)量控制和材料研究
在金屬分析領域中,輝光放電分析是濃度分析和表面分析**的手段。
表面處理工藝過程,如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等,都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。
采用濃度分布分析功能可以精 確地測量涂(鍍)層厚度及化學成分。
對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題,輝光放電光譜技術可以作為優(yōu)先選用的方法。
采用可選的射頻光源(GDA750輝光放電光譜儀)可以分析非導體材料和涂層,如玻璃,陶瓷,釉質(zhì)和油漆涂層。
GDA750可以配備60個以上的分析通道,并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂(鍍)層的深度可測量至200um表面分析和獲得的分辨率達1個原子層。分析軟件具有強大功能并且靈活易用;化學成分可以與其他特性,如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時測定。通過比較涂(鍍)層工藝過程(CVD,PVD)前后的表面特性,**生產(chǎn)工藝過程佳化和大程度地避免廢品浪費。
輝光放電光譜儀GDA750也可用于塊狀樣品的分析(如金屬合金的化學成分),為復雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線。
采用脈沖式射頻光源后,可分析非導體、熱**樣品,如:陶瓷、玻璃、有機涂層、有機薄膜。還可選裝配置特殊樣品轉(zhuǎn)移室(選裝件),用于分析*薄的薄膜和空氣中易氧化的薄膜。
GDA750/GDA550輝光放電光譜儀是高靈敏度、高性能的光譜儀,可適用于表面和涂鍍層的化學元素含量分析。多達79個分析通道,采用PMT檢測器,GDA750/GDA550型輝光放電光譜儀是高分辨率、高靈活性和高分析精度的儀器,同時可安裝**的高分辨率CCD光學系統(tǒng)(選裝件),允許同時分析所有元素,具備全譜功能,也可在現(xiàn)有的方法中添加任一元素的任一譜線。
這種靈活性在分析中,尤其對于元素含量和深度測定中至關重要。所有元素,包括輕元素(H,O,N,Cl和C)均可測定。在含量-深度測量中,分析深度可達200微米以上,層分辨率可達1納米。GDA750/GDA550也可進行基體總量分析,尤其對于復雜基體,具備優(yōu)異的線性校準曲線。檢出限可達亞PPM級。
GDA750/GDA550輝光光譜儀裝備有新一代的輝光激發(fā)光源,濺射直徑從1mm至8mm。采用通用樣品夾具,也可進行小樣品和異形樣品的分析,無需更換特殊電*。
GDA750也可選裝配置脈沖式射頻電源(選裝件),用于分析非導體材料及涂鍍層。
輝光放電光譜儀主要特點:
1.涂(鍍)層材料和均相材料化學成分的分析,痕量和微量合金元素的檢測和測量
2.濃度分布測定和表層測量數(shù)據(jù)的定性/定量評價
3.測定被分析表面層內(nèi)部的相/相比
4.軟件基于Windows 2000環(huán)境,日常分析功能采用易用的軟件界面,使用戶能很快地熟悉儀器的使用
5.具有許多適于用戶的軟件功能選項,如顯示輸出、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式
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